離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：50000
離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片...
PLD脈沖激光濺射沉積設備鍍膜儀 參考價：50000
PLD脈沖激光濺射沉積設備鍍膜儀主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點、多元素及含有氣體元素的復雜層狀超晶格薄膜...
實驗室多弧離子鍍鍍膜儀 參考價：50000
實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應物沉積在基片上十分適合鍍硬質(zhì)保護膜如TiN等。
高真空多弧離子鍍膜儀 參考價：50000
CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）,制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制...
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀 參考價：50000
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。儀器元件高度集成化...
雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜儀 參考價：50000
雙靶磁控及蒸發(fā)復合鍍膜儀包括不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規(guī)管，進氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。可用于電子產(chǎn)品、玻璃、...
桌面型二合一鍍膜儀 參考價：50000
桌面型二合一鍍膜儀可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備
熱蒸發(fā)與等離子鍍膜復合型鍍膜儀 參考價：50000
熱蒸發(fā)與等離子鍍膜復合型鍍膜儀適用于掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導體材料試驗電極的制作等
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